ОПТОСИСТЕМЫ

СВЧ-плазмохимический реактор ARDIS 300 разработан и произведен компанией «ОПТОСИСТЕМЫ» – ведущим российским производителем лазерного оборудования для медицины, науки и технологий.

ARDIS 300

Предназначен для осаждения из газовой фазы поли-, моно- и нанокристаллических алмазных пленок, а также углеродных нанотрубок для различных сфер применения.

ПРИНЦИП РАБОТЫ

В основе работы установки лежит способ осаждения синтетического алмаза из плазмы, образованной СВЧ разрядом.

 

Области применения

Драгоценные камни

Электроника

Оптика

Экология

Медицина

  • Выращивание алмазов методом осаждения из газовой фазы позволяет получить алмазные образцы недоступных ранее размеров, особой чистоты, обладающие уникальным набором электронных, оптических, тепловых, механических свойств.

  • Это обусловливает их востребованность и огромные перспективы для применения в таких отраслях как электроника, оптика, СВЧ-техника, микромеханика, обработка материалов, электрохимия.

Возможности и преимущества

  • Высокий вакуум и малое натекание из атмосферы.
  • Большой диапазон рабочих давление 6-500 торр существенно повышающий скорость роста моноалмаза
  • Стабильная плазма для широкого диапазона давлений, мощности и геометрии подложкодержателя
  • Двух волновой пирометр в диапазоне 600-2300 0C. Высокоточное измерение температуры.
  • Измерение температуры образца минуя плазму.
  • Видеоконтроль растущего образца.
  • Полностью автоматизированный контроль и мониторинг системы. Контроль и диагностика через интернет
  • АРДИС-300 выполнен в виде единого интегрированного модуля. Легкий доступ для сервиса и технического обслуживания
  • Наличие смещения (BIAS) для нуклеации
  • Подложкодержатель для роста пластинy диаметров до 4”
  • Однородность температуры по подложке < ±10%
  • Подвижный подложкодержатель для роста монокристаллов с регулировкой скорости перемещения по обратной связи
  • Смотровое окно под углом к плазме через CF окно
  • Реактор выполнен из металла. Нет контакта плазмы с кварцевыми разделителем вакуумного объема, что существенно уменьшает наличие примесей в реакторе в процессе роста.
Placeholder

Электрическая система

Трёхфазная, 380/220 В, 50 Гц
Потребляемая мощность до 12 кВт
Кнопка аварийного отключения

Placeholder

Габариты

Общая масса установки не более 450 кг.
Габариты (длина × ширина × высота) 1660×880×1840 мм

Placeholder

Аппаратное и программное обеспечение

Промышленный панельный ПК
Программный контроль параметров
Операционная система Windows

Placeholder

Требования к помещению

Минимальная площадь 10 м2
Минимальная высота 3.5 м
Ширина дверного проёма не менее 950 мм

Placeholder

Дополнительные опции

Вертикальная подвижка центральной части столика
Двухлучевой пирометр
DC Bias к подложкодержателю 0-300 В или 0-600 В

Placeholder

Брошюра PDF

Загрузите брошюру в формате PDF