Мощность СВЧ источника
до 6 кВт, частота 2.45 ГГц
Количество независимых газовых каналов
до 5
Рабочие газы:
H2 – 1000 sccm
O2 – 50 sccm
CH4 – 200 sccm
N2 – 1000 sccm
Ar – 1000 sccmРабочее давление в камере
20-500 торр
Диаметр алмазных пластин
до 100 (4″) мм
Температура подложки
до 1200 °С
Скорость осаждения алмаза
до 100 мкм/ч (для монокристаллических алмазов)
до 6 мкм/ч (для поликристаллических алмазов)Визуальный контроль
5 кварцевых 70 мм CF окон
Камера и подложкодержатель
водоохлаждаемая вакуумная камера из нержавеющей стали,
подложкодержатель из молибденаДополнительные опции
Z-подвижка, двулучевой пирометр, DC Bias
Программное обеспечение
Windows, процесс синтеза управляется программой Ardis Control
Габариты
Длина – 1660мм
Ширина – 880мм
Высота – 1840мм